Sudjatmoko Sudjatmoko
Unknown Affiliation

Published : 16 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 16 Documents
Search

KARAKTERISASI SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT GELAS UNTUK JENDELA SEL SURYA Wirjoadi Wirjoadi; Yunanto Yunanto; Bambang Siswanto; Sri Sulamdari; Sudjatmoko Sudjatmoko
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 5 Nomor 2 Juli 2002
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (124.931 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2002.5.2.215

Abstract

KARAKTERISASI SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT GELAS UNTUK JENDELA SEL SURYA. Telah dilakukan karakterisasi sifat-sifat optik lapisan tipis ZnO:Al pada substrat gelas untuk jendela sel surya dengan metode sputtering. Penelitian ini bertujuan untuk memperoleh lapisan tipis ZnO:Al yang dapat digunakan sebagai bahan TCO (Transparent Conducting Oxide) untuk sel surya silikon amorf. Untuk mendapatkan lapisan tipis ZnO:Al dengan sifat optik optimum, proses deposisi dilakukan dengan beberapa variasi parameter, yaitu variasi konsentrasi campuran Al, suhu substrat, tekanan gas dan waktu deposisi. Berdasarkan hasil eksperimen yang telah dilakukan diperoleh hasil lapisan tipis ZnO:Al yang optimum pada kondisi suhu 450 oC, tekanan gas 6×10-2 torr dan lama waktu deposisi 1,5 jam. Dari pengukuran sifat-sifat optik (transmitansi) dengan UV-vis diperoleh hasil optimum pada suhu 450 oC. Pada kondisi ini transmitansinya sekitar (50-82) %, pada tekanan gas 6×10-2 torr sekitar (50-80) % dan pada waktu deposisi 1,5 jam sekitar (49-81) % yang semuanya pada posisi panjang gelombang (500-800) nm.. Untuk lapisan tipis ZnO diperoleh hasil transmitansi sekitar (78 - 80) % pada posisi panjang gelombang (500-800) nm. Hasil foto dengan SEM, untuk lapisan tipis ZnO diperoleh tebal lapisan sekitar 1,5 μm, morfologi permukaan dan butiran-butiran kecil terdistribusi secara homogen. Sedangkan untuk lapisan tipis ZnO:Al diperoleh tebal lapisan sekitar 1,3 μm dan morfologi permukaan yang terbentuk dengan butiran-butiran yang tidak seragam.
PENGARUH PENAMBAHAN SUATU ELEMEN REAKTIF PADA PERTUMBUHAN KERAK ALUMINA DALAM MATERIAL PADUAN SUHU TINGGI Sudjatmoko Sudjatmoko
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 12 Nomor 2 Juli 2009
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (369.614 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2009.12.2.150

Abstract

PENGARUH PENAMBAHAN SUATU ELEMEN REAKTIF PADA PERTUMBUHAN KERAK ALUMINA DALAMMATERIAL PADUAN SUHU TINGGI. Material paduan suhu tinggi FeAl dan FeCrAl memperlihatkan tahan terhadapoksidasi pada suhu tinggi akibat terbentuknya kerak alumina pada permukaannya. Penambahan sedikit elemen reaktifpada paduan suhu tinggi tersebut telah memperlihatkan perbaikan yang cukup besar dalam sifat oksidasi suhu tinggi.Dalam makalah ini telah dibahas tentang pengaruh penambahan elemen reaktif yttrium terhadap pertumbuhan kerakprotektif alumina pada permukaan paduan suhu tinggi FeAl dan FeCrAl. Elemen reaktif yttrium ditambahkan padapermukaan cuplikan FeAl menggunakan teknik implantasi ion dengan dosis ion bervariasi pada orde 1015 ion/cm2 danenergi ion 100 keV, dan pada cuplikan FeCrAl dengan dosis 1017 ion/cm2 dan energi ion 85 keV. Uji oksidasi untukcuplikan FeAl dilakukan dalam media oksigen kering pada suhu 850 oC dengan beberapa kali siklus termal, dan untukcuplikan FeCrAl pada suhu 950 oC dan 1.100 oC, dan karakterisasi komposisi unsur dilakukan menggunakan teknikSEM-EDAX. Selain itu juga dibahas pengaruh penambahan elemen reaktif hafnium dan cerium pada material suhutinggi. Berdasarkan kajian ini diperoleh bahwa penambahan elemen reaktif pada permukaan material paduan suhutinggi FeAl dan FeCrAl mempengaruhi pertumbuhan kerak alumina dan meningkatkan ketahanannya terhadapoksidasi suhu tinggi rata-rata sekitar 160%.
PENGARUH NITRIDASI PLASMA TERHADAP KEKERASAN AISI 304 DAN BAJA KARBON RENDAH Suprapto Suprapto; Sudjatmoko Sudjatmoko; Tjipto Sujitno
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 13 Nomor 2 Juli 2010
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (969.125 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2010.13.2.51

Abstract

PENGARUH NITRIDASI PLASMA TERHADAP KEKERASAN AISI 304 DAN BAJA KARBON RENDAH. Telahdilakukan nitridasi dengan teknik nitridasi plasma/ion untuk perlakuan permukaan AISI 304 dan baja karbon rendahsebagai material komponen mesin. Perlakuan permukaan dimaksudkan untuk meningkatkan kualitas permukaankhususnya kekerasan. Untuk mencapai kondisi optimum dilakukan dengan memvariasi tekanan gas saat prosesnitridasi, sedangkan untuk mengetahui hasilnya dilakukan uji kekerasan, struktur mikro dan kandungan nitrogen.Hasil pengujian menunjukkan bahwa: kekerasan maksimum diperoleh pada tekanan 1,8 mbar yaitu 624,9 VHN atau2,98 kali kekerasan awal (210,3 VHN) untuk AISI 304 dan 581,6 VHN atau 3,07 kali kekerasan awal (142,9 VHN)untuk baja karbon rendah. Ketebalan lapisan nitrida logam sekitar 30 μm baik untuk AISI 304 maupun baja karbonrendah. Kandungan nitrogen setelah nitridasi 10,74% massa atau 30,32% atom untuk AISI 304 dan 6,81% massaatau 21,76% atom untuk baja karbon rendah.Kata Kunci : Nitridasi plasma/ion, AISI 304, baja karbon rendah, uji keras dan komposisi.
RANCANGBANGUN PROTOTIP DOSIMETER BERBASIS KALORIMETRI GRAFIT UNTUK PENGUKURAN DOSIS RADIASI ELEKTRON Slamet Santoso; Sudjatmoko Sudjatmoko
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 12 Nomor 2 Juli 2009
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (1141.21 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2009.12.2.155

Abstract

RANCANGBANGUN PROTOTIP DOSIMETER BERBASIS KALORIMETRI GRAFIT UNTUK PENGUKURANDOSIS RADIASI ELEKTRON. Telah dilakukan rancangbangun prototip dosimeter berbasis kalorimetri grafit untukpengukuran dosis radiasi elektron pada energi elektron sampai dengan 300 keV dan dosis maksimum 60 kGy. Intigrafit berbentuk silinder dengan diameter dan ketebalan masing-masing 30 mm dan 2 mm, dikelilingi pelindung daribahan grafit yang sama. Dosimeter berbasis kalorimetri dilengkapi Styrofoam untuk isolator panas, sensor suhu dansistem instrumentasi berbasis mikrokontroler. Karakteristik dosimeter didapatkan dengan perhitungan dan simulasikomputer menggunakan perangkat lunak Penelope 2003 dan program ANSYS. Dosimeter berbasis kalorimetri grafitdirancang untuk memberikan hasil pengukuran dosis serap rata-rata dan dosis permukaan pada grafit secara waktunyata dan dapat bekerja seperti yang diharapkan. Dibandingkan dengan pengukuran dosis menggunakan dosimetercellulose tri acetate (CTA), didapatkan perbedaan relatif 18,9% dan 9,1% pada masing-masing percobaan denganvariasi energi dan perubahan arus berkas elektron dari mesin berkas elektron (MBE).
PENGARUH KONSENTRASI BORON TERHADAP SIFAT LISTRIK LAPISAN TIPIS (a-Si:H:B) Bambang Siswanto; Wirjoadi Wirjoadi; Sudjatmoko Sudjatmoko
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 8 Nomor 2 Juli 2005
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (229.743 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2005.8.2.183

Abstract

PENGARUH KONSENTRASI BORON TERHADAP SIFAT LISTRIK LAPISAN TIPIS (a-Si:H:B). Telah dilakukan deposisibahan Si:B pada permukaan substrat kaca dengan teknik plasma sputtering DC. Deposisi dilakukan untuk beberapaparameter proses yang meliputi: waktu deposisi, tekanan gas dan suhu substrat dengan tujuan dapat diperolehlapisan tipis (a-Si:H:B) yang mempunyai konduktivitas yang memadai sebagai bahan sel surya. Target adalahbahan silikon yang telah dicampur boron dengan konsentrasi (0,1; 0,3; 0,5; 0,7) % berat. Variasi waktu deposisiadalah (0,5 - 2) jam, tekanan gas (1,1 ´ 10-1 - 1,4 ´ 10-1) Torr dan suhu substrat (150–300) oC, sedangkan gasreaktif hidrogen selama proses deposisi dibuat tetap sebesar 4 sccm. Pengukuran sifat listrik dilakukan denganprobe empat titik, konduktivitas dihitung dengan pendekatan rumus matematik. Hasil penelitian menunjukkan bahwaresistansi terkecil sebesar R = 2,73 ´ 108 W, ini diperoleh pada kondisi percobaan, waktu deposisi 1,5 jam, tekanangas 1,4 ´ 10-1 Torr dan suhu substrat 200 oC. Dengan demikian dapat disimpulkan bahwa parameter proses di atasmerupakan parameter deposisi yang optimum untuk pembuatan lapisan tipis (a-Si:H:B).
PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF TRANSPARENT CONDUCTIVE ZnO THIN FILMS BY DC MAGNETRON SPUTTERING Sudjatmoko Sudjatmoko; Suryadi Suryadi; Widdi Usada; Tono Wibowo; Wiryoadi Wiryoadi
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 5 Nomor 1 Januari 2002
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (399.919 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2002.5.1.212

Abstract

PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF TRANSPARENT CONDUCTIVE ZnO THIN FILMS BY DC MAGNETRON SPUTTERING. Transparent and conductive aluminium-doped zinc oxide thin films have been prepared by dc magnetron sputtering using targets composed of ZnO and Al2O3. Polycrystalline ZnO:Al films were deposited onto a heated glass substrate. The surface morphology and crystalline structure, as well as optical and electrical properties of the deposited films were found to depend directly on substrate temperature. From optical and electrical analysis were observed that the optical transmittance and conductivity of the ZnO:Al transparent conductive oxide films increased when deposition temperature was raised from 200 to 400 oC. Films grown on 300 oC substrates showed a high conductivity value of 0.2 x 102 -1cm-1 and a visible transmission of about 85%. The growth temperatures of 300 oC, aluminium doping levels of 0.9 wt.% were preferable to achieve ZnO:Al films with optical and structural qualities as required for solar cell applications.
ANALISIS STRUKTUR-MIKRO LAPISAN TIPIS NITRIDA BESI YANG TERNITRIDASI PADA PERMUKAAN MATERIAL KOMPONEN MESIN Sudjatmoko Sudjatmoko; Wirjoadi Wirjoadi; Bambang Siswanto; Suharni Suharni; Tjipto Sujitno
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 13 Nomor 2 Juli 2010
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (662.441 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2010.13.2.52

Abstract

ANALISIS STRUKTUR-MIKRO LAPISAN TIPIS NITRIDA BESI YANG TERNITRIDASI PADA PERMUKAANMATERIAL KOMPONEN MESIN. Pada penelitian ini telah dilakukan proses nitridasi ion material komponen mesin,yang terdiri dari pena piston dan ring piston. Nitridasi ion dari material komponen mesin tersebut dilakukan untukbeberapa variasi suhu nitridasi, waktu nitridasi dan tekanan gas nitrogen menggunakan lucutan pijar DC. Kekerasanoptimum dari cuplikan pena piston diperoleh pada suhu nitridasi 100 oC, waktu nitridasi 3 jam dan tekanan gasnitrogen 1,6 mbar, dan nilai kekerasannya meningkat sekitar enam kali terhadap cuplikan yang tidak ternitridasi;sedangkan kekerasan cuplikan cincin piston meningkat sekitar 2,6 kalinya pada kondisi suhu nitridasi 100 oC, waktunitridasi 3 jam dan tekanan gas nitrogen 1,2 mbar. Untuk mengamati struktur-mikro dan komposisi unsur dari lapisantipis nitrida besi yang terbentuk pada permukaan cuplikan digunakan SEM-EDAX, dan struktur fase lapisan nitridabesi dilakukan dengan menggunakan XRD. Berdasarkan hasil pengamatan diketahui bahwa lapisan senyawa yangterbentuk pada permukaan cuplikan mempunyai kandungan unsur nitrogen yang berbeda dan membentuk strukturfase g’-Fe4N, e-Fe3N dan z-Fe2N yang mempunyai sifat mekanik sangat baik.Kata kunci: struktur-mikro, lapisan tipis nitrida besi, komponen mesin, nitridasi ion.
PENINGKATAN KEKERASAN DAN KETAHANAN KOROSI BIOMATERIAL METALIK JENIS STAINLESS STEEL 316L DAN Ti-6Al-4V MENGGUNAKAN TEKNIK NITRIDASI ION Sudjatmoko Sudjatmoko; Wirjoadi Wirjoadi; Lely Susita; Bambang Siswanto
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 14 Nomor 2 Juli 2011
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (641.543 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2011.14.2.39

Abstract

PENINGKATAN KEKERASAN DAN KETAHANAN KOROSI BIOMATERIAL METALIK JENIS STAINLESS STEEL316L DAN Ti-6Al-4V MENGGUNAKAN TEKNIK NITRIDASI ION. Telah dilakukan nitridasi ion pada cuplikanbiomaterial metalik jenis stainless steel 316L dan Ti-6Al-4V untuk meningkatkan sifat kekerasan dan ketahanankorosinya. Proses nitridasi ion dilakukan dengan variasi parameter suhu nitridasi, tekanan gas nitrogen dan waktunitridasi untuk mendapatkan kekerasan yang tinggi dan ketahanan korosi yang sangat baik. Kekerasan optimumcuplikan stainless steel 316L diperoleh pada suhu nitridasi 500 oC, waktu nitridasi 3 jam dan tekanan gas nitrogen1,6 mbar; sedangkan untuk cuplikan Ti-6Al-4V diperoleh pada suhu nitridasi 500 oC, waktu nitridasi 3 jam dantekanan gas nitrogen 1,8 mbar. Pengamatan struktur-mikro dan komposisi unsur dilakukan menggunakan SEMEDAX,dan penentuan struktur fase lapisan nitrida yang terbentuk pada permukaan cuplikan dilakukan denganteknik XRD. Lapisan nitrida yang terbentuk pada cuplikan stainless steel 316L terdiri dari struktur fase FeN, Fe2Ndan Fe4N, dan pada cuplikan Ti-6Al-4V terdiri dari struktur fase Ti2N, TiAlN, Ti3AlN dan Ti3Al2N2. Nitrida tersebutmemiliki sifat sangat keras atau mempunyai ketahanan aus sangat baik. Ketahanan korosi cuplikan yang ternitridasidiuji menggunakan alat uji korosi dengan mengukur besarnya arus korosi. Ketahanan korosi optimum diperolehpada suhu nitridasi 450 oC.Kata kunci : Kekerasan, ketahanan korosi, biomaterial, nitridasi ion, struktur-mikro, struktur fase.
KAJIAN SIFAT BAHAN LAPISAN TIPIS FEROMAGNETIK NixFe1-x HASIL DEPOSISI DENGAN TEKNIK EVAPORASI HAMPA Sudjatmoko Sudjatmoko
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 8 Nomor 2 Juli 2005
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (193.395 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2005.8.2.185

Abstract

KAJIAN SIFAT BAHAN LAPISAN TIPIS FEROMAGNETIK NiXFe1-X HASIL DEPOSISI DENGAN TEKNIKEVAPORASI HAMPA. Telah dilakukan kajian sifat bahan lapisan tipis feromagnetik NixFe1-x hasil deposisi denganteknik evaporasi hampa. Kajian sifat bahan meliputi analisis komposisi bahan menggunakan metode XRF,resistivitas bahan lapisan tipis pada suhu kamar, dan transisi fase bahan lapisan tipis NixFe1-x. Hasil analisis denganmetode XRF diketahui bahwa komposisi lapisan yang terbentuk pada permukaan substrat relatif sama dengankomposisi bulk material yang dievaporasikan. Pengukuran resistivitas dengan metode probe empat titikmenunjukkan bahwa nilai resistivitas tergantung pada ketebalan dan komposisi bahan, serta resistivitas yangdiperoleh jauh lebih besar dibandingkan dengan resistivitas bulk material. Suhu transisi atau suhu Curie Tc yangdiperoleh memperlihatkan ketergantungannya terhadap komposisi bahan
PENGARUH TEKANAN DAN WAKTU DEPOSISI PADA TEKNIK SPUTTERING TERHADAP TAHANAN DAN REFLEKSIVITAS LAPISAN TIPIS a-Si DAN Ag Yunanto Yunanto; Sudjatmoko Sudjatmoko; Trimardji Atmono; Wirjoadi Wirjoadi
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 5 Nomor 2 Juli 2002
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (478.961 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2002.5.2.213

Abstract

PENGARUH TEKANAN DAN WAKTU DEPOSISI PADA TEKNIK SPUTTERING TERHADAP TAHANAN DAN REFLEKSIVITAS LAPISAN TIPIS a-Si DAN Ag. Telah dilakukan deposisi lopisan tipis a-Si dan Ag pada substrat kaca untuk lapisan reflektor dan lapisan untuk membuat sambungan P-N untuk sel surya. Penelitian ini bertujuan mendapatkan tahanan lapisan tipis a-Si dan refleksivitas lapisan tipis Ag yang optimal, sehingga akan dipereroleh sel surya yang mempunyai efisiensi lebih tinggi. Target Si dan Ag secara terpisah ditumbuki dengan ion Ar dalam tabung sputtering, sehingga atom Si dan Ag akan terdeposisi pada substrat kaca. Untuk mengetahui struktur kristal data lapisan tipis Si diamati dengan XRD, refleksivitas lapisan tipis Ag menggunakan UV-Vis dan tahanan lapisan tipis Si dengan multimeter digital. Dari hasil pengamatan diperoleh hasil bahwa lapisan tipis Si menunjukkan amorf, refleksivitas tertinggi lapisan tipis Ag 78 % dan tahanan terkecil lapisan tipis a-Si: 77 mega Ohm.