Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

Penggunaan SEM dan Image-J dalam Mempelajari Ketebalan Lapisan Mikrostruktur Muhammad Iqbal; Muhammad Firdaus; Muhammad Al Fauzan; Meilan Novayanti; Fathiyyah Syahidah Sujana; M. Rifan Maulana; Hana Mutialif Maulidiah; Widya Rika Puspita Rika Puspita; Mustanir Mustanir; Adlian Jefiza; Budiana Budiana; Nur Sakinah Asaad
Journal of Applied Electrical Engineering Vol 5 No 2 (2021): JAEE, December, 2021
Publisher : Politeknik Negeri Batam

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.30871/jaee.v5i2.3746

Abstract

Telah dilakukan penelitian terkait dengan ketebalan lapisan mikrostruktur dengan menggunakan SEM (Scanning Electron Microscope) dan Image-J. Sampel diuji dengan menggunakan SEM untuk mendapatkan mikrostruktur dari sampel. Setelah mikrostruktur didapatkan maka dilakukan analisa ketebalan lapisan mikrostruktur dengan menggunakan teknik pengukuran secara langsung menggunakan SEM dan teknik pengukuran tidak langsung menggunakan aplikasi Image-J. Berdasarkan hasil penelitian yang telah dilakukan, pengukuran ketebalan lapisan dengan menggunakan SEM dan Image-J menunjukkan pola kurva yang sama untuk semua ketebalan lapisan. Persentase perbedaan pengukuran ketebalan lapisan dengan menggunakan SEM dan Image J adalah 0.7% untuk lapisan ke-1, 1,6 % untuk lapisan ke-2 dan 0.8 % untuk lapisan ke-3. Persentase perbedaan tersebut sangat kecil (<2%) sehingga aplikasi Image-J ini dapat digunakan sebagai alternatif di dalam pengukuran ketebalan lapisan mikrostruktur