Widya Teknik
Vol 21, No 1 (2022): May

Degradasi Fenol Dalam Limbah Cair Secara Fotooksidasi

Adriana Anteng Anggorowati (Widya Mandala Catholic University - Engineering Faculty)
Aning Ayucitra (Widya Mandala Catholic University - Engineering Faculty)



Article Info

Publish Date
30 May 2022

Abstract

Pengolahan limbah cair telah dikembangkan dengan suatu teknologi yang disebut dengan Advance Oxidation Processes (AOPs). Dalam proses ini digunakan radikal hidroksil (●OH) sebagai pengoksidnya. Radikal hidroksil ini memiliki kemampuan oksidasi yang besar yaitu 2,8 V. Dalam penelitian ini dilakukan degradasi polutan fenol dengan membandingkan dua proses yaitu oksidasi dengan dan tanpa fotofenton, dan fotooksidasi dengan ozon. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk menentukan persentase penurunan konsentrasi fenol akibat oksidasi dan fotooksidasi. Sampel larutan fenol dioksidasi dengan reagen Fenton yaitu campuran oksidator H2O2 dan FeSO4 kemudian diradiasi dengan UV. Ozonisasi dilakukan dengan cara sampel larutan fenol dialiri ozon. Hasil dari penelitian ini adalah radiasi UV saja tanpa tambahan oksidator-kimia hanya mampu menurunkan kadar fenol hingga 20,34 % pada menit ke 50. Sedangkan jika menggunakan oksidator H2O2 dan radiasi UV, persentase penurunan konsentrasi fenol mencapai hingga 60,59 %. Pada proses oksidasi menggunakan reagen Fenton yang tanpa radiasi UV dan reagen Fenton yang dengan radiasi UV (Fotofenton) masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga persentase penurunan konsentrasinya 74,26 % dan 79,99 %. Sedangkan pada proses ozonisasi fenol, tanpa dan dengan radiasi UV masing-masing dapat mendegradasi fenol hingga persentase penurunan konsentrasi fenolnya mencapai 88,61 % dan 92,48 %. Berdasarkan hasil tersebut dapat disimpulkan bahwa radiasi UV sangat berpengaruh positif dalam mendegradasi fenol dalam limbah cair secara oksidasi.

Copyrights © 2022






Journal Info

Abbrev

teknik

Publisher

Subject

Engineering

Description

Widya Teknik is a scientific publication in the fields of engineering mostly in the electrical/ electronic engineering, chemical engineering, industrial engineerng, computer science, information technology and engineering related ...