M. Thamrin
Jurusan Fisika FMIPA –ITB, Jl. Ganesha 10 Bandung - Indonesia

Published : 1 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

Pengaruh Tekanan Dan Komposisi Massa Pereaksi II-VI Terhadap Penumbuhan Lapisan Tipis ZnO Dengan Metode MOCVD M. Thamrin; Wilson W. Wenas
Indonesian Journal of Physics Vol 12 No 1 (2001): Vol. 12 No. 1, Januari 2001
Publisher : Institut Teknologi Bandung

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (64.125 KB)

Abstract

Dalam penelitian ini telah berhasil dikaji dalam bentuk pemodelan dan eksperimen pengaruh tekanan dan komposisi massa pereaksi II-VI terhadap penumbuhan lapisan tipis ZnO dengan metode Metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) menggunakan untuk pertama kalinya gas sistem pereaksi DMZn/H2O. Hasil dari pemodelan dan eksperimen menunjukkan kesesuaian yang baik. Dari analisa laju penumbuhan lapisan tipis ZnO terhadap tekanan deposisi didapatkan bahwa laju penumbuhan meningkat secara eksponensial, sedangkan terhadap komposisi massa pereaksi II-VI, laju penumbuhan cenderung menjadi saturasi di atas nilai stoichiometri.