Article Per Year (5 Year)
p-Index From 2019 - 2024
0.23
P-Index
This Author published in this journals
All Journal Jurnal Simetris JTT (Jurnal Teknologi Terapan)
Suwandi, Dedi
Jurusan Teknik Mesin, Fakultas Teknik, Universitas Lampung
Computer Science & IT

Published : 3 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 2 Documents
Search
Journal : JTT (Jurnal Teknologi Terapan)

 1 
Optimasi UV-Photolithography Aligner dan Photomask Menggunakan Produk Komersial untuk Microfabrication Canra, Delffika; Suwandi, Dedi
Jurnal Teknologi Terapan Vol 2, No 1 (2016): Jurnal Teknologi Terapan
Publisher : P3M Politeknik Negeri Indramayu

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.31884/jtt.v2i1.22

Abstract

The high price of a UV-photolithography aligner on the market is the reason for designing and characterize low cost UV-photolithography aligner. Photolithography process is simple but it needs patience, enable to modify photolithography aligner by using commercial components and certainly low price. The objective of this study is analyzing the ability of a commercial product in UV-photolithography process, search optimum exposure time and resolution. The method of photolithography process to be used is the method of contact alignment. Commercial UV lamps and cheap photomask are main component in this study. With a light intensity of 0.2 mW/cm2 require the exposure time at least 50 seconds. The smallest achievable resolution depends on the resolution photomask. The Results of smallest resolution is 165 m with a percentage error 10% of the original design.
Mikrofabrikasi Jalur PCB Menggunakan Metode Visible Ligth Maskless Photolitography Suwandi, Dedi; Badruzzaman, Badruzzaman; Istiyanto, Jos
Jurnal Teknologi Terapan Vol 1, No 1 (2015): Jurnal Teknologi Terapan
Publisher : P3M Politeknik Negeri Indramayu

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.31884/jtt.v1i1.28

Abstract

Pada tulisan ini akan dibahas metode modifikasi dari Photolitography yaitu Visible Ligth Maskless Photolitography, perbedaannya menggunakan sinar tampak (visible light) dan tanpa mask (cetakan) selanjutnya diaplikasikan pada fabrikasi jalur listrik PCB (printed circuit board). [DI1]Kelebihan metode adalah mudah, murah tetapi mampu membuat profil rumit dan aman. Cara kerjanya model/ profil dibuat di komputer/ laptop kemudian dipancarkan melalui DLP projector. Pada bagian bawah projector dipasang PCB yang sudah dilapisi Negative Photoresist sehingga terjadi proses exposure. Selanjutnya dilakukan proses developing dan eching sehingga terbentuk profil sesuai desain. Pada jenis projector Infocus IN114A ditemukan parameter terbaik: posisi lensa pemfokus pembesaran 3X berjarak 3 cm dibawah DLP projektor dan 14 cm diatas material uji PCB, menggunakan kombinasi warna hitam (R:0 G:0 B:0) dan biru terang (R=0, G=176, B=240) dengan waktu prebake 2 menit, spin 2.000 rpm, exposure 3 menit, developing 5 menit, Postbake 5 menit dan Eching 5 menit. Profil jalur listrik yang berhasil dibuat diantaranya: garis, huruf, alur listrik, dan bentuk microcontroller. Hasil pengukuran Scanning Electron Microscope (SEM) profil garis terkecil yang dapat dibuat yaitu m132 m dan memiliki kekasaran tepi (deviasi) 6,6 m.
Co-Authors Aa Setiawan, Aa Badruzzaman Badruzzaman Delffika Canra Jos Istiyanto Kartika, Ahmad Maulana Rahmi, Meri Wardika, Wardika