Sukirno .
Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Institut Teknologi Bandung Jalan Ganesa 10, Bandung

Published : 1 Documents Claim Missing Document
Claim Missing Document
Check
Articles

Found 1 Documents
Search

DEPOSISI FILM TIPIS CERIA DIDADAH Nd MENGGUNAKAN TEKNIK PULSED-LASER ABLATION DEPOSITION (PLAD) lis Nurhasanah; Khairurrijal .; Mikrajuddin Abdullah; Bambang Ariwahjoedi; Maman Budiman; Sukirno .
Jurnal Sains dan Teknologi Nuklir Indonesia (Indonesian Journal of Nuclear Science and Technology) Vol 7, No 2 (2006): Agustus 2006
Publisher : BATAN

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | DOI: 10.17146/jstni.2006.7.2.2137

Abstract

DEPOSISI FILM TIPIS CERIA DIDADAH Nd MENGGUNAKAN TEKNIK PULSED-LASER ABLATION DEPOSITION (PLAD). Film tipis ceria didadah Nd (Nd-doped ceria/NDC) telah berhasil dideposisikan di atas substrat Si(100) pada ~temperatur 400°C menggunakan teknik pulsed-laser ablation depostion (PI‑AD) dalam kondisi vakum dan tekanan 02 antara 15 - 29 mTorr. Analisis difraksi sinar-x, scanning electron microscopy (SEM), dan energy dispersive x-ray (EDX) digunakan untuk mengamati struktur, ketebalan dan komposisi kimia film. Hasil studi ini menunjukkan bahwa tekanan 02 selama proses deposisi menentukan kristalisasi, ketebalan film dan komposisi atom dalam film. Film tipis NDC dengan struktur kompak dan komposisi beragam yang diperoleh menunjukan bahwa teknik PLAD berpotensi untuk menghasilkan film tipis elektrolit yang penting bagi solid electrolyte fuel cell (SOFC).