JFA (Jurnal Fisika dan Aplikasinya)
Vol 6, No 2 (2010)

Studi Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) dengan menggunakan Target Tak Planar

Yoyok Cahyono (Institut Teknologi Sepuluh Nopember (ITS))

Article Info

Publish Date
10 Jun 2010

Abstract

Telah dilakukan studi proses PIII dengan menggunakan model sheath dinamis tanpa tumbukan plasma multispesies bermuatan tunggal dan ganda dengan bentuk target silinder dan bola. Bentuk Pulsa tegangan yang digunakan adalah tegangan realistis. Dalam model ini ditentukan ekspansi sheath dinamis dan rapat arus ionimplan total dengan menggunakan massa efektif yang merupakan fungsi dari komposisi, keadaan muatan dan massa ion dari masing-masing spesies yang berbeda.

Copyrights © 2010




Citation Download
RIS
EndNote, Reference Manager, ProCite
BibTex
Latex, Jabref
Full PDF
410.069 KB
Original Source
Download Original
Google Scholar
Check in Google Scholar
Journal Info
JFA (Jurnal Fisika dan Aplikasinya)
Website

Abbrev

jfa

Publisher

Institut Teknologi Sepuluh Nopember Surabaya

Subject

Physics

Description

JFA (Jurnal Fisika dan Aplikasinya, Abbreviation: J.Fis. dan Apl.) hanya menerbitkan artikel penelitian asli serta mengulas artikel tentang topik seputar bidang fisika (fisika teori, material, optik, instrumentasi, geofisika) dan aplikasinya. Naskah yang dikirimkan ke JFA belum pernah diterbitkan ...