cover
Article Per Year (5 Year)
All
Home Page
OAI Link
Editorial Team
Contact
Reviewer
Google Scholar
Contact Name
-
Contact Email
-
Phone
-
Journal Mail Official
ganendra@batan.go.id
Editorial Address
Jl. Babarsari Kotak Pos 6101 ykbb, Yogyakarta 55281
Location
Kota adm. jakarta selatan,
Dki jakarta
INDONESIA
Ganendra: Majalah IPTEK Nuklir
Published by Badan Tenaga Nuklir Nasional
ISSN : 14106957     EISSN : 25035029     DOI : https://doi.org/10.17146/gnd
Core Subject : Science, Education,
Computer Science & IT Other
Jurnal Iptek Nuklir Ganendra merupakan jurnal ilmiah hasil litbang dalam bidang iptek nuklir, diterbitkan oleh Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PTAPB) - BATAN Yogyakarta. Frekuensi terbit dua kali setahun setiap bulan Januari dan Juli.
Arjuna Subject : -
Articles 5 Documents
 1 
Search results for , issue "Volume 10 Nomor 2 Juli 2007" : 5 Documents clear
DEPOSISI LAPISAN TIPIS (CdS) TIPE-N DI ATAS LAPISAN TIPIS (CuInSe2) TIPE-P SEBAGAI PENYANGGA UNTUK SEL SURYA CIS Wirjoadi Wirjoadi; Yunanto Yunanto; Bambang Siswanto
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 10 Nomor 2 Juli 2007
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (816.687 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2007.10.2.164

Abstract

DEPOSISI LAPISAN TIPIS (CdS) TIPE-N DI ATAS LAPISAN TIPIS (CuInSe2) TIPE-P SEBAGAI PENYANGGAUNTUK SEL SURYA CIS. Telah dilakukan deposisi lapisan tipis (CdS) tipe-N di atas lapisan tipis (CuInSe2) tipe-Ppada substrat kaca, yaitu bagian dari komponen untuk sel surya CIS dengan teknik DC sputtering. Penelitian inibertujuan untuk mengetahui pengaruh deposisi lapisan tipis CdS di atas lapisan tipis CuInSe2 terhadap tipe konduksi.Untuk mendapatkan lapisan tipis CdS yang optimal, maka telah dilakukan variasi parameter sputtering yaitu waktudeposisi 30; 60; 90 dan 120 menit, tekanan gas 1,1 ´ 10-1; 1,2 ´ 10-1; 1,3x10-1dan 1,4 ´ 10-1 Torr, yang lain dibuattetap yaitu suhu substrat 200 oC, tegangan 3 kV dan arus 40 mA. Pengukuran resistansi dan tipe konduksi digunakanprobe empat titik, Dari hasil pengukuran diperoleh bahwa nilai resistansi terendah R = 5,14 kW, pada kondisi waktudeposisi 60 menit, tekanan gas 1,3 ´ 10-1 Torr, suhu 200 oC, tegangan 3 kV dan arus 40 mA, kemudian tipekonduksinya adalah tipe-N. Struktur kristal lapisan terorientasi pada bidang (103), (004) dan (200) untuk penumbuhankristal CuInSe2, dan pada bidang (100),(110) dan (220) untuk penumbuhan kristal CdS. Hasil pengamatan strukturmikro dengan SEM diperoleh butiran-butiran yang terdistribusi cukup homogen, untuk lapisan CuInSe2 mempunyaiketebalan lapisan 1,0 mm dan lapisan CdS mempunyai ketebalan 0,6 mm.
DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS Sayono Sayono; Tjipto Sujitno
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 10 Nomor 2 Juli 2007
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (187.183 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2007.10.2.165

Abstract

DEPOSISI LAPISAN TIPIS ZnO:Al PADA SUBSTRAT ALUMINA UNTUK BAHAN SENSOR GAS. Telah dilakukandeposisi lapisan tipis ZnO:Al pada substrat alumina menggunakan teknik DC Sputtering untuk aplikasi sensor gas.Deposisi lapisan tipis ZnO:Al dilakukan dengan parameter proses sputtering tegangan elektroda DC sebesar 2.2 kV,arus 10 mA dan suhu substrat 250oC, waktu deposisi divariasi 30 - 150 menit dengan interval 30 menit dan tekanandivariasi masing-masing : 1 ´ 10-2 atm, 2 ´ 10-2 atm, 3 ´ 10-2 atm, 4 ´ 10-2 atm dan 5 ´ 10-2 atm. Dari hasilkarakterisasi diperoleh nilai resistansi terendah sebesar 64 kΩ diperoleh pada kondisi waktu deposisi 90 menit dantekanan operasi 4 ´ 10-2 atm. Hasil pengukuran sensitivitas menunjukkan bahwa sensor gas dari bahan ZnO:Almempunyai sensitivitas tertinggi terhadap gas sensor C2H5OH sebesar 24%, untuk gas NH3 sebesar 19,77% danuntuk gas SO2 sebesar 17,53% pada 141,54 konsentrasi/volume.
PRINSIP DASAR TEKNOLOGI OKSIDASI MAJU : TEKNOLOGI HIBRIDA OZON DENGAN TITANIA Widdi Usada; Agus Purwadi
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 10 Nomor 2 Juli 2007
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (248.101 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2007.10.2.161

Abstract

PRINSIP DASAR TEKNOLOGI OKSIDASI MAJU:TEKNOLOGI HIBRID OZON DENGAN TITANIA. Salah satumasalah dalam kesehatan lingkungan adalah limbah cair organik yang berasal dari berbagai sumber pencemaran.Teknologi yang ramah lingkungan untuk degradasi limbah organik adalah ozon. Ozon ini dihasilkan melalui teknologilucutan plasma, tetapi kemampuannya terbatas. Oleh karena itu diperlukan teknologi baru yang ramah lingkunganyang mempunyai kemampuan lebih kuat. Teknologi baru ini disebut teknik oksidasi maju. Teknologi oksidasi majumerupakan gabungan antara teknologi ozonisasi, peroksida, sinar UV dan fotokatalis. Dalam makalah ini dikenalkanprinsip dasar hibrid antara ozon dengan fotokatalis semikonduktor titania. Kemampuan pendegradasian limbah cairorganik lebih kuat karena adanya radikal baru yang dihasilkan reaksi pasangan hole dan elektron dari fotokatalisatortitania dengan air atau oksigen. Selanjutnya radikal baru ini akan mendegradasi limbah cair tersebut. Teknologi inidigunakan untuk mendegradasi fenol.
DESAIN KOLIMATOR TIPE TABUNG UNTUK PENYEDIAAN BERKAS RADIOGRAFI DENGAN SUMBER GENERATOR NETRON Yohannes Sardjono
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 10 Nomor 2 Juli 2007
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (179.829 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2007.10.2.162

Abstract

DESAIN KOLIMATOR TIPE TABUNG UNTUK PENYEDIAAN BERKAS RADIOGRAFI DENGAN SUMBERGENERATOR NETRON. Telah dilakukan desain kolimator untuk penyediaan berkas radiografi netron dengansumber generator netron. Kolimator ini berguna untuk mendapatkan fluks netron termal yang optimal dengan pengotorradiasi (netron epitermal dan gamma) yang sekecil-kecilnya. Proses desain dilakukan dengan melakukan simulasimenggunakan Monte Carlo N-Particle (MCNP) code untuk menghitung tally berupa fluks netron dan laju dosisekuivalen. Desain kolimator yang dipilih adalah jenis tabung yang tersusun dari material moderator parafin, reflektorgrafit, dan kolimator wall alumunium. Parameter optimasi desain adalah panjang kolimator 4 - 8 cm, dengan interval 1cm, jenis bahan moderator (parafin, grafit, berilium, dan air), jenis beam filter adalah timbal, dan material apertureadalah boron atau kadmium. Kriteria penerimaan adalah fluks netron termal 103 - 106 n.cm-2.s-1, n/γ ratio > 106n.cm-2.mR-1 dan Cd ratio > 2. Untuk keselamatan lingkungan digunakan parafin sebagai biological shielding dan timbalsebagai casing. Dari hasil perhitungan optimasi desain dapat diperoleh bahwa kolimator dengan sumber generatornuetron menghasilkan keluaran fluks netron termal 4.67 + 0.5981 x 103 n.cm-2.s-1, rasio netron-gamma (n/γ) ≥ (1.56 +0,000111).106 n.cm–2 mR-1 dan laju dosis ekuivalen pada jarak 10 cm dari permukaan fasilitas adalah 0,0378 - 0,0521mR/jam.
UJI FUNGSI SISTEM NITRIDASI ION UNTUK PERLAKUAN PERMUKAAN Suprapto Suprapto; Tjipto Sujitno; Sayono Sayono
GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir Volume 10 Nomor 2 Juli 2007
Publisher : Website

Show Abstract | Download Original | Original Source | Check in Google Scholar | Full PDF (652.823 KB) | DOI: 10.17146/gnd.2007.10.2.163

Abstract

UJI FUNGSI SISTEM NITRIDASI ION UNTUK PERLAKUAN PERMUKAAN. Telah dilakukan uji fungsi sistemnitridasi ion untuk perlakuan permukaan. Uji fungsi bertujuan untuk mengetahui kinerja sistem nitridasi ion yang telahdirancang bangun untuk meningkatkan kekerasan permukaan logam. Dalam uji fungsi dilakukan uji kevakuman,penggunaan sistem nitridasi ion untuk nitridasi cuplikan (baja poros) dan karakterisasi cuplikan hasil nitridasi. Hasil ujikevakuman menunjukkan bahwa kevakuman dengan tabung reaktor plasma dan tanpa tabung reaktor plasma tidakmenunjukkan perbedaan yang signifikan yaitu 3,7 x 10-2 mbar dan 3 x 10-2 mbar sehingga kebocoran yang terjadicukup kecil. Uji penggunaan sistem nitridasi ion menunjukkan bahwa: nitridasi dengan campuran gas N2 dan H2 dapatmengoptimalkan proses nitridasi sehingga diperoleh kekerasan yang lebih tinggi dibanding pada proses nitridasidengan gas N2 yaitu 868,5 KHN dengan kekerasan 4,05 kali kekerasan sebelum dinitridasi, sedangkan dengan gas N2didapatkan kekerasan 523,5 KHN. Pengamatan kedalaman difusi nitrogen dengan pengujian kekerasan penampangmelintang dan struktur mikro mendekati sama terbukti bahwa pengukuran kekerasan melintang pada kedalaman 110mm hampir sama dengan material induk, sedangkan pada pengamatan struktur mikro perubahan butir terjadi sampaipada kedalaman 95 mm. Dengan hasil ini sistem nitridasi ion dapat berfungsi dengan baik untuk proses nitridasisehingga dapat meningkatkan kekerasan permukaan.

Page 1 of 1 | Total Record : 5

 1 

Filter by Year

2007 2007


Reset
Filter By Issues
All Issue Volume 24 Nomor 2 Juli 2021 Volume 24 Nomor 1 Januari 2021 Volume 23 Nomor 2 Juli 2020 Volume 23 Nomor 1 Januari 2020 Volume 22 Nomor 2 Juli 2019 Volume 22 Nomor 1 Januari 2019 Volume 21 Nomor 2 Juli 2018 Volume 21 Nomor 1 Januari 2018 Volume 20 Nomor 2 Juli 2017 Volume 20 Nomor 1 Januari 2017 Volume 19 Nomor 2 Juli 2016 Volume 19 Nomor 1 Januari 2016 Vol 18, No.2 (2015) Volume 18 Nomor 1 Januari 2015 Volume 17 Nomor 2 Juli 2014 Volume 17 Nomor 1 Januari 2014 Volume 16 Nomor 2 Juli 2013 Volume 16 Nomor 1 Januari 2013 Volume 15 Nomor 2 Juli 2012 Volume 15 Nomor 1 Januari 2012 Volume 14 Nomor 2 Juli 2011 Volume 14 Nomor 1 Januari 2011 Volume 13 Nomor 2 Juli 2010 Volume 13 Nomor 1 Januari 2010 Volume 12 Nomor 2 Juli 2009 Volume 12 Nomor 1 Januari 2009 Volume 11 Nomor 2 Juli 2008 Volume 11 Nomor 1 Januari 2008 Volume 10 Nomor 2 Juli 2007 Vomor 10 Nomor 1 Januari 2007 Volume 9 Nomor 2 Juli 2006 Volume 9 Nomor 1 Januari 2006 Volume 8 Nomor 2 Juli 2005 Volume 8 Nomor 1 Januari 2005 Volume 7 Nomor 2 Juli 2004 Volume 7 Nomor 1 Januari 2004 Volume 6 Nomor 2 Juli 2003 Volume 6 Nomor 1 Januari 2003 Volume 5 Nomor 2 Juli 2002 Volume 5 Nomor 1 Januari 2002 More Issue